納米壓印光刻機，本機統(tǒng)針對各大專院校高效、企業(yè)及科研單位應用創新，對光刻機使用特性研發(fā)的一種高精度光刻系統(tǒng)。

   公司產(chǎn)品涵蓋金屬材料檢測與非金屬材料檢測機構，品種達一百多個改善。土木工程類高校用到的：大型多功能結(jié)構(gòu)試驗系統(tǒng)、巖土工程試驗系統(tǒng)協調機製、自平衡反力架信息化、力學模型試驗系統(tǒng)、電液伺服疲勞系統(tǒng)實踐者、高溫高壓應力腐蝕試驗系統(tǒng)取得明顯成效、千斤頂檢定裝置等。另有全系列產(chǎn)品：電子wanneng試驗機系列數據；液壓wanneng試驗機系列創新的技術；壓力試驗機系列；扭轉(zhuǎn)試驗機顯著；彈簧試驗機快速增長；沖擊試驗機、摩擦磨損試驗機今年、鋼絞線錨固松弛試驗機穩步前行；電纜繩索臥式拉力機系列；動靜疲勞試驗機系列動手能力、橡膠支座壓剪試驗機系列逐步改善；大噸位力學加載壓力機；飛機起落架檢測系列提升；絕緣子檢測系列大大提高；特殊定制大型試驗系統(tǒng)。國家電網(wǎng)：風電葉片疲勞加載綜合測試系統(tǒng)研究成果、風電機組葉片疲勞加載綜合測試系統(tǒng)取得了一定進展、風電葉片雙軸疲勞加載系統(tǒng)、風電葉片面向旋轉(zhuǎn)疲勞加載系統(tǒng)大面積、風電葉片兩點疲勞加載系統(tǒng)等積極參與。

一、納米壓印光刻機技術(shù)參數(shù)

1.曝光時間調(diào)解器：0.1至999.9秒(可調(diào)節(jié)精度0.1s)培養；
2.365-400nm光強傳感及電源供應控制電路及反饋閉環(huán)交流研討；
3.聲控功率警報裝置可防止系統(tǒng)功率超過設定指標；
4.有安全保護裝置的溫度及其氣流傳感器形式；
5.全景準直透鏡光線偏差半角:<1.84度建設應用；
6.波長濾片檢查及安裝裝置支撐作用；
7.抗衍射反射功能高效反光鏡；
8.二向色的防熱透鏡裝置背景下；
9.防汞燈泄漏裝置綜合措施；
10.配備蠅眼棱鏡裝置；
11.配備近紫外（或深紫外）光源

12.主要配置：6“自然條件，8"光源系統(tǒng)設計標準，
13.手動系統(tǒng)，半自動系統(tǒng)將進一步。
14.支持電源350-2000 充分發揮。
15.支持深紫外近紫外波長（可選項）。
16.支持背后對準及MEMS工藝要求成就。
17.CCD或顯微鏡對準系統(tǒng)。
18.主要性能指標：光強均勻性Beam Uniformity:--<±1% over 2"開展面對面。 區(qū)域系統，--<±2% over 4"區(qū)域，--<±3% over 6"區(qū)域進一步提升。
19.接觸式樣曝光特征尺寸CD(近紫外NUV）：0.5 um空間廣闊。

二、主要用途

⒈ 本機針對各大專院校改革創新、企業(yè)及科研單位知識和技能，對光刻機使用特性研發(fā)的一種高精度光刻機。

⒉ 由于本機找平機構(gòu)先進新模式，找平力小實現、使本機不僅適合單晶硅片、玻璃片組織了、陶瓷片服務體系、銅片、不銹鋼片搶抓機遇、寶石片的曝光分析，而且也適合易碎片如砷化鉀、磷化銦等基片全面闡釋、的曝光以及非圓形基片和小型基片的曝光非常激烈。

3.工作方式 ：本機為單面對準、單面曝光引人註目。

三領域、主要構(gòu)成：主要由高精度對準工作臺、雙目分離視場顯微鏡顯示系統(tǒng)共享、曝光頭信息化、氣動系統(tǒng)方式之一、真空管路系統(tǒng)、直聯(lián)式無油真空泵新型儲能、防震工作臺和附件等組成創新能力。

四、主要功能特點

1.適用范圍廣：適用于Φ100mm以下範圍，厚度5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的對準曝光求得平衡。

2.結(jié)構(gòu)先進：具有半球式找平機構(gòu)和可實現(xiàn)真空硬接觸、軟接觸空間廣闊、微力接觸的真空密著機構(gòu)至關重要。

3.操作簡便：采用翻板方式取片、放片服務品質；按鈕的發生、按鍵方式操作，可實現(xiàn)真空吸版影響、吸片新的動力、吸浮球、吸掃描鎖等功能發展契機，操作廣泛關註、調(diào)試、維護發力、修理都非常簡便優勢領先。

4.可靠性高：采用進口電磁閥、按鈕共創美好、定時器推動並實現；采用dute的氣動系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)和精密的機械零件協調機製，使本機具有非常高的可靠性信息化。

5.特設“碎片"處理功能：解決非圓形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分離不開所引起的版片無法對準的問題實踐者。